经审理，国家知识产权局作出第11号撤销程序审查决定，维持专有权有效。
布图设计复制件或者图样作为获得专有权登记必须提交的文件，其法律地位高于芯片样品，在复制件或者图样中没有相应体现的布图设计信息，不应属于专有权保护的范围。而芯片样品作为已投入商业利用的布图设计登记申请专有权应提交的申请材料，由于可以通过技术手段精确还原出其所包含的布图设计详细信息，如果基于客观原因，在复制件或图样中的确存在某些无法识别的设计细节，可以参考芯片样品予以确认。
独创性部分不是指个别分立元件或者个别元件的连接关系，而是指由多个元件构成的相对独立的模块，该相对独立的模块一般应具备两个条件，一是相对于其他部分而言，该独创性部分具有相对独立的电子功能；二是在布图设计复制件或图样中，该独创性部分相对于其他部分应具有相对清晰、可以划分的边界。
在判断布图设计的独创性时，首先应当关注对比布图设计与本布图设计的创作者之间的关系。如果对比布图设计与本布图设计的创作者相同，二者均属于创作者自己的智力劳动成果，本布图设计属于专有权人的独立创作，此时应当综合考虑该对比布图设计的创作时间是否早于本布图设计、该对比布图设计是否已经登记获得专有权，本布图设计与该对比布图设计是否相同或实质相同，以及如果存在区别，在本布图设计创作时二者的区别是否属于公认的常规设计等因素，以判断本布图设计的独创性。
同一专有权人的一项布图设计，应当仅享有一项专有权。在专有权人就其布图设计已经取得一项专有权的前提下，该专有权人在后申请登记的布图设计欲取得专有权，应当与该已取得专有权的布图设计具有实质性区别，即应当具备独创性，否则就会出现同一个布图设计享有多项专有权的不合理情形。
如果对比布图设计与本布图设计的创作者不同，则需要判断本布图设计的创作者是否存在接触对比布图设计的可能性，当存在接触可能性的情况下，判断本布图设计相对于对比布图设计是否属于创作者自己的智力劳动成果，当本布图设计属于创作者自己的智力劳动成果时，再判断本布图设计相对于对比布图设计是否属于公认的常规设计。
若为同一创作者，需证明后续设计独立完成且与在先设计存在实质性差异，避免重复主张同一布图设计；
若为不同创作者，需先判断是否存在接触可能，再评估设计是否属于创作者独立完成的非显而易见成果，排除对常规设计的简单组合或模仿。
3、独创性主张应客观稳定，不得随意变更核心内容，且需以登记文件（如图样）明确体现的模块结构为依据，不得依赖样品推测未明确的设计细节。
4、同一专有权人后续申请的设计须与已获权设计存在显著区别，防止通过拆分或模糊边界获取多重保护。
5、独创性判断需平衡私权保护与公共利益，强调设计创新的实际贡献而非形式差异。
3、保护范围以图样为基准：布图设计的图样清晰界定了独创性模块的边界和功能，虽部分细节依赖样品补充，但核心创新点通过图样明确体现，符合法律保护范围；
4、未违反“一项专有权”原则：GLF71301与权利人另一布图设计GLF71311虽功能相似，但二者在具体设计细节（如MOSFET数量、金属层配置）上存在实质性区别，不构成重复授权。
五、典型意义
本案对布图设计撤销案件的审理规则提供指引。
一是明晰法律用语内涵。明确条例规定的“商业利用”中“以其他方式提供”布图设计的行为是指类似于进口或销售的实际提供行为，不包括宣传、许诺销售等未实际发生提供的行为。
二是确定独创性审查范围。专有权人在登记、确权、维权程序中主张的独创性部分变化，但其变化与已主张的独创性部分密切相关，未超出社会公众合理预期或损害其合法利益，则可被接受。
三是完善独创性判断标准。专有权人的在先布图设计也属于对比布图设计的范畴。专有权人的在后布图设计欲获得保护，应当与其在先布图设计具有实质区别，且该实质区别不属于公认的常规设计。
陈敏
君龙律师事务所 专利工程师
- 计算机应用技术硕士；
- 3年企业知识产权申请业务管理经验，为企业挖掘专利，结合企业战略规划布局专利；
- 负责国内案件的检索、挖掘、撰写、OA答复、竞争对手分析、无效及复审答复等工作
- 专长领域：人工智能领域、计算机硬件和软件领域、计算机通信领域、计算机网络领域、芯片制造领域、电路领域等。
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